CS/ONH 分析（CS/ONH）

G8 GALILEO

用于自動、精確測量氧、氮、氫元素的分析儀

現有的功能比較全的系統

質譜檢測能力

亮點高準確度、高通量的分析儀

ppb (ng/g)

檢出限

G8 GALILEO使用的所有檢測器都擁有內部參比通道，可實現高穩定性，并能使檢出限達到ppm以下數量級（假設樣品量為1 g）

含3臺以上分析儀

在單個系統中

無論任務是通過熱導式檢測器進行O/N/H分析并測量實際氫氣含量，或是可靠地測定高純度鋁中含量低于ppm的氫元素，或是測量焊縫中的擴散和殘留氫，還是對用于增材制造的粉末原料或零部件進行氬夾雜分析：G8 GALILEO都能滿足幾乎每一個分析需求。

0-100 amu

m/z 質譜儀范圍 （MS）

質譜儀(MS)的質荷比范圍 工業級質譜儀專為氫氬元素檢測而設計，配備優化的離子源和通道探測器。因為擁有高效的進氣系統，它能達到低于ng/g數量級的檢出限，相當于由幾個分子組成的顆粒密度。

優秀的ONH分析方法 - 惰性氣體熔融法 - 配套理想的ONH分析系統：G8 GALILEO和G8 GALILEO MS

憑借G8 GALILEO分析儀，布魯克成為一家能提供全集成的氧氮氫分析解決方案的公司，該解決方案集多套專用系統的優點于一身，且分析性能不受任何影響，亦不存在任何技術限制。G8 GALILEO利用Smart Molecule Sequence™直接測量排放的所有氣體，并獲得真實的信息（1:1），無需化學轉化、數學校正或未發表的算法。

FusionControl可對樣品進行持續無接觸的溫度測量，從而確保維持合適的分析溫度，避免形成干擾性的產物，使穩定性和正常運行時間都增加。

有自動樣品和坩堝處理、電極清洗和自動氣體劑量校準的選項。當配備G4 PHOENIX獨特的紅外爐時，它能進行可靠的擴散氫、殘留氫和總氫測量，并能達到針對于焊縫金屬中的輕元素測量的ISO 360標準和AWS A4.3標準。

主要優勢：

• 水冷式電極爐配備FusionControl，水冷式樣品容器，高容量集塵器，后面是高效的聯機顆粒過濾器

• Smart Molecule Sequence™：直接、無夾雜地測量由擁有參比通道的檢測器排放出的所有氣體。

• 提供自動熔爐清潔、坩堝和樣品處理選項

• 可利用獨特的外部紅外爐進行擴散氫測定

• 可自動、可靠地進行10種不同容量的氣體校準

• 可與質譜聯用進行熱解吸質譜（TDMS）分析和氬夾雜分析

為何需要惰性氣體熔融法分析？

(O)、氮(N)和氫(H)這三種非金屬元素，決定了所有金屬材料的質量、使用壽命和力學性能。與金屬合金中的組成成分不同的是，在從生產原材料到完成成品的整個工藝鏈條中，氧、氮和氫的含量有時會發生很大變化。氬夾雜量也是一樣，在生產金屬粉末期間通過原子化摻入的痕量氬，將殘留在產品中。

獲取關于擴散氫及其破壞機制的動態信息，具有許多實際的應用，例如，開發新一代的高強度鋼材，開發適用于氫能儲存或生物醫學植入的材料。